全球微影設備龍頭艾司摩爾 (ASML-US) 今 (15) 日公佈第二季財報，營收達 93 億歐元，超越財測的 90 億歐元，同時也二度上調全年營收預估至 430 至 450 億歐元間，較上次預估的 360-400 億歐元大幅上修。此外，ASML 也於會中宣布，英特爾 (INTC-US) 已將 High NA EUV 導入量產。
ASML 此次宣布，High NA EUV 技術邁入新里程碑，英特爾晶圓代工 (Intel Foundry) 已將 ASML EXE High NA EUV 技術用於量產部分代號為 Panther Lake 的 Intel Core Ultra Series 3 處理器。Intel 18A 特定層數目前也已於美國奧勒岡州完成 High NA EUV 製程的雙重驗證，產品良率已達到與 NXE 平台相當的水準，並開始出貨給客戶。
英特爾與 ASML 將持續深化合作，推進 High NA EUV 技術的導入，並依據客戶需求，靈活應用於未來製程節點。
ASML 第二季營收 (net sales) 為 93 億歐元，淨收入為 (net income) 29 億歐元，毛利率 (gross margin) 為 54%。其中，第二季營收超越原預估的 84 億至 90 億歐元，毛利率也優於 51% 至 52% 的區間。執行長 Christophe Fouquet 表示，第二季營收、毛利率均優於指引，主要來自銷售與累積裝機管理收入高於預期。
ASML 也公布第三季指引，預估營收達 110 至 120 億歐元之間，毛利率預估約 55% 至 57%，並預計 2026 年的營收約在 430 億至 450 億歐元之間，毛利率約為 54% 至 56%。
Christophe Fouquet 指出，由於 AI 相關領域的投資與技術持續發展，正帶動先進邏輯與儲存晶片需求成長，進一步強化半導體產業的成長前景。因應此趨勢，ASML 客戶也在不斷加速其產能擴張計劃，並轉換成對我們產品組合的承諾，增加我們對未來市場需求的能見度。
由於今年上半年市場訂單量仍然非常強勁，基於此成長動能，ASML 規劃於 2027 年將 Low NA EUV 微影設備產能從 2026 年的 65 台提升 30%，並進一步評估於 2028 年再增加 30% 的產能。
ASML 也計劃將 2026 年約 130 台浸潤式 DUV 微影系統的產能於 2027 年增加 30%，並研究於 2028 年再增加 30% 的可能性，也持續大幅擴展設備升級產品組合服務。
ASML 預估，第三季營收約 110 億到 120 億歐元，毛利率介於 55% 至 57% 之間。預估研發成本約為 12 億歐元，銷售與管理費用 (SG&A) 約為 4 億歐元。我們預計 2026 年總銷售淨額為 430 億到 450 億之間，毛利率約為 54% 到 56%。